紫外光催化氧化設(shè)備

工藝簡介：

    紫外光催化氧化設(shè)備是通過紫外光照射在納米TiO2光催化劑上產(chǎn)生電子空穴對，與表面吸附的水份(H2O)和氧氣(O2)反應(yīng)生成氧化性很活波的羥基自由基(OH-)和氧離子自由基(O2-、0-)。能夠把各種廢臭氣體，如醛類、苯類、氨  類、氮氧化物、硫化物及其它VOC類有機物還原成二氧化碳(CO2)、水(H2O)以及其它無毒無害物質(zhì)，從而達到污染物去除的目的。同時具有除臭、消毒、殺菌的功效，由于在光催化氧化反應(yīng)過程中無任何添加劑，所以不會產(chǎn)生二次污染。

工藝***色：

1.該工藝結(jié)構(gòu)簡單，占地面積??；

2.反應(yīng)速度快，停留時間極短；

3.啟動、停止十分快捷，即開即用；

4.不受氣溫影響，無需派專職人員看守；

5.反應(yīng)過程只需用電，不用投加其他輔助藥劑和填料，因此節(jié)省藥劑和填料的采購、運 輸、儲存、管理等一系列繁瑣的事務(wù)，可******節(jié)省人力和運行費用。

適用范圍：

   適用于各種工業(yè)廢氣排放、家具廠、油漆廠、化工廠、鑄造廠、制藥廠、塑膠廠、玩具廠、電子廠；醫(yī)院、餐飲、賓館、娛樂場所、等公共場所、實驗室等產(chǎn)生的甲醛、苯、氨等有毒氣體及微生物等產(chǎn)生的有機廢氣處理。